改造火星毫无疑问需要的是技术以及金钱的支撑，这两者缺一不可。
经过漫长的时间之后，如果能改造成功，毫无疑问火星就会属于张星辰了，不管别人承认也好，不承认也好。
张星辰有能力改造也有能力上去，别人呢，或者说别地国家呢？
或许，其他国家连送人去火星都办不到呢，而张星辰这里已经完成了火星的改造，想想一个人独占一个星球的美好，想到张星辰的嘴角都忍不住往上轻俏。
……
自己生产硅晶圆片仅仅是第一步，接下来的第二步就是自己制造光刻机，其是高端光刻机。
可以自己制造光刻机之后，那么生产芯片的整个流程星辰公司可以说都掌握了，从设计芯片到制造硅晶圆片到生产芯片整个流程，上流中流，下流都可以完成了，独自完成，再也不用依靠别人。
说起光刻机来，其实光刻机有很多名字。比如说光刻系统，比如说曝光系统，比如说掩模对准曝光机等等，其实他们说的都是一个设备，那就是光刻机。
光刻机是生产芯片最关键的一种设备，可以说没有光刻机，就生产不出来芯片。
光刻机的工作原理非常简单，和以前照片冲印的技术类似，只不过精密度有一定的差别。
可以说光刻机的精密度非常的高，已经达到纳米级别。
可以毫不夸张地说高端的光刻机是这个世界上最精密的仪器，被称作现代光学工业之花，其中没有一点水分，货真价实。
从这个称呼来看，我们就可以从侧面反映出光合机的精密度以及价值，高端的光刻机的价格非常昂贵，可以卖到5亿米元。
当然这不仅仅是金钱的关系，有时候你就算有钱，人家也不愿意卖给你。
因为外国人害怕我们买回去之后研究，然后可以自己制造出来，毕竟我们国家的逆向推理能力还是非常强的。
现在能知道高端高科技的企业都是外国企业呀，其中最出名的就是三个企业，三个企业就是荷兰的ASML，岛国的AI Kun以及岛国的Acon。
这三大企业当中，岛国占据两个，我们可以从这方面可以发现岛国在光刻机上是非常强大的。
虽然我们有历史原因非常仇视岛国，但是我们不得不承认他们强大，不得不正视他们的强大，我们需不需要盲目地自大，也不需要盲目地自卑。
我们要正视自己，也要正视敌人，认清自己，也认清认清楚敌人，这样做到知己知彼才能百战不殆。
此时的落后不可怕，可怕的是一直在落后，我们知道自己不如别人之后，这样才能追上敌人，甚至超越敌人。
而且因为星晨公司的存在，相信用不了多长时间，我们在芯片上的能力。就会超越岛国超过ASML，甚至把他们远远甩在身后。
到时候我们国家就会成为芯片大国，也是芯片强国。
芯片是在硅晶圆片上镌刻出来的，想要制造芯片，首先我们要准备好一张硅晶圆片，然后我们在硅晶圆片上面涂抹上光刻胶。
把涂抹好光刻胶的硅晶圆片放在光刻机的平台上，光刻胶的上方会有一个掩模，掩模的上面就是紫外光线发射器。
当光刻机开始工作的时候，紫外光线发射器会发射出紫外光线，紫外光线透过掩模就会照射到光刻胶上。
在掩模上，有着已经事先设计好的电路线图，光刻机释放出来的紫外光线透过掩模上的缝隙，通过缝隙的紫外光线会照射在光刻胶上。
那么接受紫外光线照射的光刻胶就会融化。因此在光刻胶上形成了电路图案。
但是这里要注意，这里仅仅是在光刻胶上形成了图案，我们最终的目的是在硅晶圆片上形成电路线图。
随后我们把硅晶圆片放入到腐化剂上，这样在没有光刻胶保护的地方就会被腐化剂给腐蚀掉，从而在硅晶圆片上留下电路。
等电路图形成之后，用纯净水清洗表面就可以，去除杂质。
这个过程就像拿着手电筒照一个拥有漏洞的图案，这个漏洞是什么，就会在背后的墙上形成什么样的图案一样。
原理是一样的，主要是看精密度。
光刻机的精密度是纳米级别的。
如果仅仅说纳米级别，大家是感受不出来它的精密度到底有多么精密？
在这里可以打一个形象的比喻，大家都知道头发丝的厚度，如果不知道，我们可以从自己的头上拔一个看看。
纳米级别的精密度就是一根头发丝的五千分之一这么细。
想想吧，我们的一根头发分成5000份，纳米级别就是其中的五千分之一。
而光刻机的误差仅仅在两纳米之内。
光刻机有两个工作平台，这两个工作平台要保持同步，这就是所谓的机械精度，机械精度的误差也在两个纳米之内。
这两个工作平台一个是放硅晶圆片的，一个释放掩模的。
在光刻机上紫外光线发射器是不动的，而两个工作平台是同时移动的，这样可以提高芯片的成品率，但是对设备要求非常高。
当然啦，光刻机不仅仅机械精密要求高，而且对于光源的要求也是非常高，里边儿蕴含着光学系统也是无比的复杂。
光刻机的光源有DUV，也有EUV.
所谓的EUV也就是极紫外光。
光刻机里面用极紫外光的，光刻机被称作EUV光刻机，可以说这是世界上最先进的光刻机，能生产五纳米乃至三纳米的芯片，掌握这种技术的仅仅只有米国一个国家。
我们国家也可以生产光刻机，但是精密度却没有那么高，我们自己生产的光刻机。被称作600系列光刻机。
它可以生产90纳米的芯片，是长城电子设备公司制造出来的，而外国的高科技也能生产五纳米的芯片了。
两者相比较，我们可以看出双方之间的差距来还是非常大的，这可不仅仅是一代的差距。是数代的差距。
要知道光刻机的精密度90纳米是一个难关，过了这难关之后，将密度进一步提升是非常容易的，前面一路舒坦。一直到45纳米才会遇见关卡。
过了45纳米这一关之后，下一关就是22纳米了……
后边还有很多关卡，我们自己制造的光刻机仅仅能制造90纳米的芯片，不过我们通过购买国外淘汰的光刻机，现在我们的中芯国际可以制造14纳米的芯片了。
事实就是这样，国外永远不会卖给我们最先进的东西。
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